ZEISS eröffnet Semiconductor Innovation Center in Korea für engere Zusammenarbeit mit Kunden

(Auszug aus der Pressemitteilung)

ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology (SMT) hat in Yongin, Korea, ein neues ZEISS Innovation Center eröffnet. Damit erweitert ZEISS seine Präsenz in einem der weltweit wichtigsten Halbleitermärkte und stärkt sein globales Standortnetzwerk zur Unterstützung der Branche.

An der Eröffnungsfeier nahmen Dr. Frank Rohmund, President und CEO von ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology und Mitglied des ZEISS Executive Boards, Dr. Thomas Stammler, Chief Technology Officer, Dr. Karoline Piegdon, Head of Semiconductor Fab Solutions (SFS), Dr. Clemens Neuenhahn, Head of Semiconductor Mask Solutions (SMS), sowie Dr. Jaane Seehusen, die mit Wirkung zum 1. September 2026 zur Leiterin von ZEISS South Korea ernannt wird, teil. Daneben waren Vertreterinnen und Vertreter der koreanischen Halbleiterindustrie, der Deutschen Botschaft in Korea, der European Union Chamber of Commerce Korea und der Koreanisch-Deutschen Industrie- und Handelskammer anwesend.

Lokaler Zugang zu ZEISS Lösungen für Hochvolumen-Waferproduktion und Advanced Packaging

Im neuen Innovation Center bündelt ZEISS ausgewählte Systeme und Lösungen aus den Portfolios Semiconductor Mask Solutions und Semiconductor Fab Solutions. Das Center ist darauf ausgelegt, Innovationen in der Hochvolumen-Waferproduktion und im Advanced Packaging mit hochpräzisen Metrologie-, Inspektions- und Maskenreparaturtechnologien zu unterstützen.

Zu den installierten Systemen gehören:

• NLX®-100: die 3D- Röntgenmetrologie- und Inspektionslösung liefert hochauflösende Röntgendiagnostik und Daten komplexer Package-Strukturen und unterstützt die Prozesskontrolle, beispielsweise im Wafer-Level und Advanced Packaging.
• DUNE®100: ein System zur aktiven Kontrolle der Waferform mit integrierter, hochpräziser Messtechnik. Es ermöglicht Fabs, die globale Waferverformung individuell für jeden Wafer und bei jedem kritischen Prozessschritt zu messen und zu korrigieren.
• MeRiT® AE: wird die nächste Generation der Maskenreparaturtechnologie sein. Sie wird die Fähigkeit zur Reparatur der kritischsten und kleinsten Defekte auf Photomasken mit weiterhin hoher Ausbeute weiter ausbauen und schafft damit die entscheidende Voraussetzung für anspruchsvolle fortschrittliche Halbleiterprozesse.

ZEISS plant, zusätzliche Lösungssysteme im koreanischen Innovation Center zu installieren, um die technische Zusammenarbeit zu einem frühen Zeitpunkt mit Kunden in Korea weiter zu stärken.

Lokaler Hub für die Zusammenarbeit mit Kunden

Das ZEISS Semiconductor Innovation Center in Korea fungiert als zentrale Plattform für den direkten Austausch mit führenden koreanischen Chip-Herstellern. „Wir freuen uns, unser erstes globales Semiconductor Innovation Center in Korea zu eröffnen – einem der Schlüsselstandorte der weltweiten Chipindustrie. Mit diesem Center rücken wir näher an unsere Kunden heran. Wir möchten ein verlässlicher, langfristiger Partner für unsere Kunden in Korea sein und unsere Zusammenarbeit weiter vertiefen“, sagt Dr. Frank Rohmund.

Das Center ermöglicht Vor-Ort-Entwicklung, Prozessoptimierung und eine schnellere Qualifizierung für Hochvolumen-Produktionsumgebungen. So trägt es dazu bei, den Übergang von Forschung und Entwicklung zur Anwendung beim Kunden zu beschleunigen.

Dr. Jaane Seehusen, zukünftige Leiterin von ZEISS Korea, ergänzt: „Das Innovation Center in Yongin ist ein wichtiger Schritt in unserer Strategie, die Kundeninteraktion in der Halbleiterindustrie zu stärken und zugleich die Präsenz von ZEISS in Korea weiter auszubauen.“