Per Pressemitteilung hat uns Branchenleader Intel darüber informiert, dass die Corporation das weltweit erste Forschungslabor für 300mm Wafer eröffnet hat. Genannt wird es RP1, wobei RP für Research und Pathfinding steht. Insgesamt hat es 250 Millionen Dollar verschlungen das Labor zu bauen. Die RP1 ist für die Entwicklung zukünftiger Fotolithografie und Forschungen an hochleistungsfähigen Transistoren sowie fortschrittlichen Interconnects (Kupfer und optisch) gedacht. Im 5200 Quadratmeter großen Reinraum soll der Technologievorsprung von Intel gesichert werden. Verstärkt wird die RP1 durch die sich in der nahen Umgebung befindende D1C Entwicklungsfabrik und die Massenfertigungsfabrik Fab 20. Doch mehr dazu in der Pressemitteilung.
Quelle: Pressemitteilung
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