10 GHz Prozessor in 2005?

Chip-Herstellung dringt in extrem ultravioletten Bereich vor

Die Halbleiter-Industrie hat nach Angaben von ZDNet einen wichtigen Meilenstein erreicht mit der ersten Chip-Produktionsmaschine, die den Prozess der „extreme ultraviolet lithography“ (EUV) verwendet. Dieser Fertigungsprozess befindet sich aber noch in der Erprobungsphase, die bis nächstes Jahr laufen wird. Ende 2003 sollen die Geräte dann das Beta-Stadium erreichen. In 2005 werden voraussichtlich die endgültigen Maschinen verfügbar sein.

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Intel erwartet, dass mit EUV hergestellte Transistor-Designs Geschwindigkeiten bis 10 GHz möglich sind.
Diese Art der Lithographie wird auch Photolithographie genannt und funktioniert – vereinfacht ausgedrückt – ähnlich wie das normale fotografieren. Eine Maschine druckt ein Bild eines Schaltkreises auf einen Silizium-Wafer, diese Bilder werden entwickelt, und dann werden die Materialien schichtweise entfernt oder draufgelegt.
Fortschritte in der Chip-Produktion wie mit der EUV sind äußerst wichtig für Hersteller wie Intel und AMD, um die Taktfrequenzen auch weiterhin kontinuierlich steigern zu können. Heutige Prozessoren werden überwiegend in 0,18µ Technologie gefertigt. Die ersten serienmässigen EUV-Maschinen werden in der Lage sein, Chips in 0,07µ bzw. 70nm Technologie (mit Leiterbahnen, tausendmal dünner als ein menschliches Haar!) zu produzieren.

Quelle: ZDNet News

Frank Schräer

Herausgeber, Chefredakteur und Webmaster

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