Umweltfreundliche Fertigung und höchste Leistung – Intel mit 16 neuen Prozessoren im 45nm-Fertigungsprozess
Elementarer Fortschritt im Transistordesign treibt das Mooresche Gesetz weiter
Feldkirchen, den 12. November 2007 – Intel stellt heute 16 neue Prozessoren vor, bei denen erstmals anstelle von Silizium neue Materialien im Gate Stack zum Einsatz kommen: Hafnium in der Isolationsschicht (Gate-Dielektrikum)...
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