Intel baut zweite Fabrik für den 45 nm Herstellungsprozess mit 300 mm großen Wafern
Feldkirchen/Santa Clara, den 01. Dezember 2005 – Intel plant den Bau einer neuen Halbleiterfabrik mit 300 mm großen Wafern an seinem Standort in Kiryat Gat, Israel. Die neue Fabrik mit dem Namen...

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